特許
J-GLOBAL ID：200903076383360660
気流層ガス化装置ならびにこれを用いたガス化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203287
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013071
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 炭層ガスの無駄をなくし、安全かつ安定に炭層ガスをガス化炉へ供給して微粉炭とともにガス化することができる気流層ガス化装置およびこれを用いたガス化方法を提供すること。【解決手段】 気流層ガス化炉1と、これに、微粉炭を搬送する微粉炭搬送管3、酸素含有ガスを供給する酸素供給管11および炭層ガスを供給する炭層ガス供給管4と、炭層ガス供給管4に、ガスの流れ方向に沿って順次設けられた誘引ブロワ5および圧縮機6とを有する気流層ガス化装置において、炭層ガス供給管4の誘引ブロワ5の前流側に窒素または気流層ガス化炉における生成ガスの一部を導入するガス導入管14または15を設け、炭層ガス供給管4の圧縮機6の前流側に、O2 モニタ16を備えたガスホルダ17を設けたこと。
請求項（抜粋）：
気流層ガス化炉と、該気流層ガス化炉へ、微粉炭を搬送する微粉炭搬送管、酸素含有ガスを供給する酸素供給管および炭層ガスを供給する炭層ガス供給管と、該炭層ガス供給管に、ガスの流れ方向に沿って順次設けられた誘引ブロワおよび圧縮機とを有する気流層ガス化装置において、前記炭層ガス供給管の誘引ブロワの前流側に窒素または前記気流層ガス化炉における生成ガスの一部を導入するガス導入管を設け、前記炭層ガス供給管の圧縮機の前流側に、酸素濃度監視モニタを備えたガスホルダを設けたことを特徴とする気流層ガス化装置。
FI (2件)：
C10J 3/54 B
, C10J 3/54 L
