特許
J-GLOBAL ID：200903076386273652
半導体装置のフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079725
公開番号（公開出願番号）：特開平5-313350
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】半導体チップ上に形成された各工程パターンの認識作業の自動化を可能とすることによって、人間の誤作業をなくし作業工数の削減を図る。【構成】フォトマスク1は露光領域2と非露光領域3から成り、非露光領域3にバーコード4を備えており、バーコード4は使用する製品名、工程名、及びフォトマスク番号情報を登録している。
請求項（抜粋）：
半導体装置のフォトマスクにおいて、フォトマスクは露光領域と非露光領域から成り、前記非露光領域にバーコードを形成し、前記バーコードには、前記フォトマスクを使用する製品名、工程名、及びフォトマスク番号情報を登録することを特徴とする半導体装置のフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/02
, H01L 21/027
