特許

J-GLOBAL ID：200903076408554103

欠陥検出方法及び欠陥検出装置

発明者： 室田 直哉 ,  中島 毅 ,  武士 正美
出願人/特許権者： スズキ株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091315
公開番号（公開出願番号）：特開2000-283748
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 先端部の欠けを安定して検出すること。【解決手段】 側面に平面を有する測定対象物の当該側面に計測光を照射する計測光照射工程S1と、この計測光照射工程S1にて計測光が照射された測定対象物の平面を撮像する撮像工程S3と、この撮像工程S3にて撮像された画像に対して画像処理を行う画像処理工程S4乃至S7とを備えている。そして、画像処理工程は、画像中に予め定められたしきい値以上の輝度を有する画素を抽出する高輝度画素抽出工程S4と、この高輝度画素抽出工程S4にて高輝度画素が抽出されたときには当該高輝度画素領域に対応する位置にて欠けが生じたと判定する欠け判定工程S5,S6とを備えた。

請求項（抜粋）：

側面に平面を有する測定対象物の当該側面に計測光を照射する計測光照射工程と、この計測光照射工程にて計測光が照射された測定対象物の平面を撮像する撮像工程と、この撮像工程にて撮像された画像に対して画像処理を行う画像処理工程とを備え、前記画像処理工程は、前記画像中に予め定められたしきい値以上の輝度を有する画素を抽出する高輝度画素抽出工程と、この高輝度画素抽出工程にて高輝度画素が抽出されたときには当該高輝度画素領域に対応する位置にて欠けが生じたと判定する欠け判定工程とを備えたことを特徴とする欠陥検出方法。

IPC (4件)：

G01B 21/20 102 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G06T 7/00

FI (5件)：

G01B 21/20 102 Z ,  G01B 11/24 A ,  G01B 11/30 A ,  G06F 15/62 400 ,  G06F 15/70 330 N

Fターム (37件)：

2F065AA49 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065HH05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F069AA60 ,  2F069DD19 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG52 ,  2F069GG68 ,  2F069GG74 ,  2F069HH30 ,  2F069MM23 ,  2F069NN00 ,  2F069NN02 ,  2F069PP02 ,  5B057AA01 ,  5B057CE06 ,  5B057DA03 ,  5B057DB03 ,  5B057DC22 ,  5B057DC32 ,  5L096AA09 ,  5L096BA03 ,  5L096CA03 ,  5L096FA14 ,  5L096GA08 ,  5L096GA51 ,  5L096GA55