特許

J-GLOBAL ID：200903076412120746

縮小投影露光方法

発明者： 渡辺 昇
出願人/特許権者： 関西日本電気株式会社
代理人 (1件)： 江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-070524
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275307
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】 半導体ウェーハの縮小投影露光時における半導体ウェーハ自体の伸縮や反りによる露光ずれを無くし、露光精度を上げる。【構成】 圧力調整で倍率調整される倍率調整空間(6)を有する縮小投影レンズ(3)で、レティクル(2)の露光用パターンを縮小して半導体ウェーハ(1)に投影し露光する方法である。半導体ウェーハ(1)の少なくとも所定の2点間の距離を光学測定器(14)で測定した測定値Aと、2点間の正規の距離A'から半導体ウェーハ(1)の伸縮率を演算回路(15)で演算する。演算された伸縮率に基づいて縮小投影レンズ(3)の倍率調整空間(6)の圧力調整を行い、縮小投影レンズ(3)の倍率調整を行ってから、半導体ウェーハ(1)を露光する。半導体ウェーハ(1)の伸縮率の演算は、半導体ウェーハ(1)に形成されたアライメントマーク(9)間の距離測定値に基づいて行われる。

請求項（抜粋）：

筒体内に光軸を合わせて複数の縮小レンズが組付けられ、縮小レンズ間の倍率調整空間の圧力調整により倍率調整されるレンズコントロール機能を備えた縮小投影レンズで、レティクルパターンを縮小して半導体ウェーハに投影し露光するに際し、半導体ウェーハの所定箇所での距離測定値から半導体ウェーハの伸縮率を演算し、この演算された伸縮率に基づいて縮小投影レンズの倍率調整空間の圧力調整を行うことを特徴とする縮小投影露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-096219
  
• 特願平3-167415
  出願番号：特願平3-167415  
• 特開平2-098118