特許

J-GLOBAL ID：200903076451401647

ハニカムフィルタ及びその製造方法

発明者： 二宮 健
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-022958
公開番号（公開出願番号）：特開2000-218165
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：

【要約】【課題】破壊強度を向上することができるハニカムフィルタを提供する。【解決手段】多孔質炭化珪素焼結体よりなる基材2は孔部内面に強度増加用のシリカ膜8が形成され、そのシリカ膜8を含む基材2の酸素濃度は1wt%〜10wt%である。シリカ膜8を含む多孔質炭化珪素焼結体中の酸素は炭化珪素粒子6の表層部に存在している。

請求項（抜粋）：

ハニカム状に形成された多孔質炭化珪素焼結体の孔部内面に強度増加用のシリカ膜が形成され、そのシリカ膜を含む多孔質炭化珪素焼結体の酸素濃度は1wt%〜10wt%であるハニカムフィルタ。

IPC (4件)：

B01J 27/224 ,  B01D 53/86 ,  B01J 37/14 ,  C04B 41/87

FI (4件)：

B01J 27/224 A ,  B01J 37/14 ,  C04B 41/87 M ,  B01D 53/36 C

Fターム (31件)：

4D048AA06 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA06X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA45X ,  4D048BA45Y ,  4D048BB02 ,  4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BB15A ,  4G069BB15B ,  4G069BD04A ,  4G069BD04B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069CA03 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA13 ,  4G069CA15 ,  4G069CA18 ,  4G069EA19 ,  4G069EA27 ,  4G069EB17Y ,  4G069FA04 ,  4G069FC07