特許
J-GLOBAL ID：200903076455370339
ダイナミックドライエッチング装置及びこれを用いたダイナミックドライエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-252246
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102368
出願日： 2000年08月23日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 ダイナミックドライエッチング装置及びこれを用いたダイナミックドライエッチング方法を提供する。【解決手段】 半導体基板がローディングされるエッチングチャンバと、前記エッチングチャンバ及びガスソースに連結されて、前記エッチングチャンバに流入するエッチングガスの流量を一定に調節できる流量流れ調節器と、前記流量流れ調節器に連結されて、前記エッチングチャンバに流入するエッチングガスの流量を時間に従う関数式によって流入できる制御器と、前記制御器に連結されてこれを制御する主制御器とを含んでなる。前記制御器は波形発生器を含んでなり、前記関数式は1次関数、2次関数、段差関数または周期関数で構成できる。これにより、本発明は、エッチングガスの流量をエッチング時間に従い増減させて所望のエッチング特性を得ることができる。
請求項（抜粋）：
半導体基板がローディングされるエッチングチャンバと、前記エッチングチャンバ及びガスソースに連結されて、前記エッチングチャンバに流入するエッチングガスの流量を一定に調節できる流量流れ調節器と、前記流量流れ調節器に連結されて、前記エッチングチャンバに流入するエッチングガスの流量を時間による関数式によって流入できる制御器と、前記制御器に連結されてこれを制御する主制御器とを含んでなることを特徴とするダイナミックドライエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/768
H01L 21/302 J
, H01L 21/90 C
