特許
J-GLOBAL ID：200903076496923016
炭酸ジエステルの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062876
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256267
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 銅触媒を含有する触媒液を用いる炭酸ジエステルの製造方法において、その触媒液の劣化を防止することにより、長期間にわたって安定的に反応操作を行なうことのできる方法を提供する。【解決手段】(i)該触媒液中で有機ヒドロキシ化合物を一酸化炭素及び酸素と反応させる反応工程、(ii)該反応工程から、炭酸ジエステル、副生水、未反応アルコール及び触媒液を含有する反応生成液を抜出する反応生成液抜出し工程、(iii)該反応工程から抜出された反応生成液を、該触媒液を主成分とする液相成分と、該炭酸ジエステル、副性水、未反応有機ヒドロキシ化合物を主成分とする気相成分とに分離する蒸留又は蒸発処理工程、(iv)該触媒液を主成分とする液相成分の少なくとも一部を一酸化炭素と接触させる触媒液再生工程、(v)該触媒液再生工程で得られた再生触媒液を該反応工程へ循環する循環工程、からなり、該蒸留又は蒸発処理工程で得られる液相成分中の水分濃度を、該蒸留又は蒸発処理条件を調節して2重量%以下に保持することを特徴とする炭酸ジエステルの製造方法。
請求項（抜粋）：
(a)銅触媒、(b)下記一般式(1)R1[CH(R2)CH2O]nR3 (1)(式中、R1はアルキル基又はアリール基を示し、R2はメチル基、エチル基又は水素を示し、R3はアルキル基、アリール基又は水素を示し、nは1〜12の整数を示す)で表されるグリコールエーテル及び(c)環状窒素化合物を含み、該銅触媒が溶解状態で存在する均一溶液からなる触媒液を用いる炭酸ジエステルの製造方法において、(i)該触媒液中で有機ヒドロキシ化合物を一酸化炭素及び酸素と反応させる反応工程、(ii)該反応工程から、炭酸ジエステル、副生水、未反応有機ヒドロキシ化合物及び触媒液を含有する反応生成液を抜出する反応生成液抜出し工程、(iii)該反応工程から抜出された反応生成液を、該触媒液を主成分とする液相成分と、該炭酸ジエステル、副生水、未反応有機ヒドロキシ化合物を主成分とする気相成分とに分離する蒸留又は蒸発処理工程、(iv)該触媒液を主成分とする液相成分の少なくとも一部を一酸化炭素と接触させる触媒液再生工程、(v)該触媒液再生工程で得られた再生触媒液を該反応工程へ循環する循環工程、からなり、該蒸留又は蒸発処理工程で得られる液相成分中の水分濃度を、該蒸留又は蒸発処理条件を調節して2重量%以下に保持することを特徴とする炭酸ジエステルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C07C 68/00 B
, C07C 69/96 Z
4H006AA02
, 4H006AC48
, 4H006AD11
, 4H006BA02
, 4H006BA05
, 4H006BA06
, 4H006BA37
, 4H006BA47
, 4H006BA51
, 4H006BB15
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BC19
, 4H006BC36
, 4H006BD32
, 4H006BD52
, 4H006BE01
, 4H006BE30
, 4H006BE40
, 4H006BE53
, 4H006BE61
, 4H006BE62
, 4H006BT40
, 4H006KA60
