特許

J-GLOBAL ID：200903076516158508

リソグラフイ-用ペリクル

発明者： 久保田 芳宏 ,  樫田 周 ,  永田 愛彦 ,  野口 仁
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206588
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027415
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は帯電防止することによってゴミの付着を減少するようにしたリソグラフィ-用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィ-用ペリクルはペリクル膜の表面を化学的および/または物理的手段により親水層として静電気の発生、蓄積を防止してなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

膜の表面を化学的および/または物理的手段により親水層として静電気の発生と蓄積を防止してなることを特徴とするリソグラフィ-用ペリクル。

IPC (4件)：

G03F 1/14 ,  C08F234/02 MNW ,  H01L 21/027 ,  C08F214/06 MKQ

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-285348
  
• 特開平3-067262
  
• 特開平3-039963