特許
J-GLOBAL ID:200903076531423447
薄膜加工装置および加工方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
工藤 実
, 中尾 圭策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-184577
公開番号(公開出願番号):特開2005-019818
出願日: 2003年06月27日
公開日(公表日): 2005年01月20日
要約:
【課題】膜の除去する部分の膜厚に合わせてレーザビームの強度を調整することができる薄膜加工装置を提供すること。【解決手段】本発明の薄膜加工装置は、基板(10)上に形成された膜(13)の厚さを測定する膜厚測定部と、膜(13)の一部を除去するレーザビーム(50)を出力するレーザ(1)と、膜厚測定部で測定された膜(13)の厚さに基き、レーザビーム(50)の強さを調整するレーザ調整部(2、7)と、を具備する。膜厚測定部は、膜に電磁波を照射する照射部(5)と、膜(13)を透過した電磁波を計測する計測部(6)とを具備する。膜厚測定部により除去する部分の膜厚を測定して、レーザビーム(5)の強度を好適に調整することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上に形成された膜の厚さを測定する膜厚測定部と、
前記膜の一部を除去するレーザビームを出力するレーザと、
前記膜厚測定部で測定された前記膜の厚さに基き、前記レーザビームの強さを調整するレーザ調整部と、
を具備し、
前記膜厚測定部は、前記膜に電磁波を照射する照射部と、前記膜を透過した前記電磁波を計測する計測部とを具備する、
薄膜加工装置。
IPC (3件):
H01L31/04
, B23K26/00
, G01B11/06
FI (3件):
H01L31/04 B
, B23K26/00 C
, G01B11/06 Z
Fターム (23件):
2F065AA30
, 2F065BB01
, 2F065CC25
, 2F065CC31
, 2F065FF44
, 2F065FF46
, 2F065GG21
, 2F065HH13
, 2F065HH15
, 2F065JJ01
, 2F065JJ09
, 2F065LL00
, 2F065NN20
, 2F065PP12
, 4E068AC01
, 4E068CA02
, 4E068CB08
, 4E068CC01
, 4E068CE04
, 4E068DA09
, 5F051AA05
, 5F051BA11
, 5F051EA16
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