特許

J-GLOBAL ID：200903076532368172

洗浄剤組成物およびそれを含有する化粧料

発明者： 中島 徹 ,  福田 元 ,  渡辺 美広 ,  大月 直美 ,  林 成晃 ,  徳山 浩史
出願人/特許権者： 日澱化學株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110204
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287897
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】化粧品などの分野では近年、低刺激の素材が求められ、天然素材をベースに開発されるものが多くなってきている。本発明では人体に対して低刺激で泡立ちがよく、さらに、洗浄時の泡切れのよい洗浄剤を含む化粧料を提供することを目的とした。【解決手段】本発明のアルケニルコハク酸糖エステル塩、アルキルグリコシドおよびカチオン化ポリマーを含有する洗浄剤組成物は泡質のリッチ感はそのままではあるが、洗浄後の泡切れがよく残り感も少ない。また、刺激性も低いものができる。この洗浄剤を用いた化粧料は、上記の性質を保持したままである。

請求項（抜粋）：

アルケニルコハク酸糖エステル塩およびアルキルグルコシドを含有する洗浄剤組成物。

IPC (10件)：

C11D 7/60 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32

FI (8件)：

C11D 7/60 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32