特許

J-GLOBAL ID：200903076538761372

シャッタ付き同軸型スパッタ成膜装置

発明者： 松田 竜一 ,  中西 功太
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314798
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131739
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 ターゲットの表面に付着した不純物による基板の損傷を防ぎ、良好な品質の成膜が可能な同軸型スパッタ成膜装置を提供すること。【解決手段】 膨らみを有していてもよい円筒状の基板の中心軸の位置にターゲットを配置し、前記基板の内面に成膜する同軸型スパッタ成膜装置であって、成膜に先立ち基板とターゲットとを遮断した状態でプレスパッタを行いターゲット表面を清浄化し、その後基板内面にスパッタ成膜を行うように構成してなることを特徴とするシャッタ付き同軸型スパッタ成膜装置。

請求項（抜粋）：

膨らみを有していてもよい円筒状の基板の中心軸の位置にターゲットを配置し、前記基板の内面に成膜する同軸型スパッタ成膜装置であって、前記円筒状基板の両端に円筒部材を接続し、該円筒部材の一端から中心軸の位置にターゲットを挿入、固定することによって閉止して内部に成膜室を形成した円筒状基板を真空加熱室内に設置し、前記円筒部材の他端には可動式の筒状シャッタを接続し、成膜に先立ち前記成膜室内のターゲットと基板内面との間に前記筒状シャッタを挿入して基板とターゲットとを遮断した状態で高周波電力を入力してプレスパッタを行いターゲット表面を清浄化し、その後筒状シャッタを成膜室から抜き出して基板内面にスパッタ成膜を行うように構成してなることを特徴とするシャッタ付き同軸型スパッタ成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 14/34 G ,  C23C 14/34 E ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/31 D

Fターム (24件)：

4K029AA27 ,  4K029CA05 ,  4K029DA10 ,  4K029DA12 ,  4K029DC13 ,  4K029DC22 ,  4K029DC27 ,  4K029DC30 ,  4K029DC35 ,  4K029DC46 ,  4K029FA04 ,  4K029FA05 ,  4M104DD37 ,  4M104DD39 ,  4M104HH20 ,  5F045AA19 ,  5F045BB14 ,  5F045DP25 ,  5F045EB02 ,  5F045EB09 ,  5F045EB11 ,  5F045EH04 ,  5F045EH16 ,  5F045EK06