特許
J-GLOBAL ID：200903076540883957

清浄空間の形成方法及びクリーンブース

発明者：
五味 弘

五味 弘 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 遠山 勉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-252596
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074286
出願日： 1999年09月07日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】 イニシャルコストをより下げることが可能であるとともに、必要に応じて形成されるのにより好適な清浄空間の形成。【解決手段】 クリーンエア吹出部3を有するサプライチャンバ2とクリーンエアダクト5とからなるクリーンエアの通気路を、所定の通気抵抗を有する変形自在な薄膜で構成し、この通気路にクリーンエアの供給源であるクリーンエア供給ユニット4を着脱可能に接続し、前記クリーンエアの通気路にクリーンエアを供給し、内圧によって前記通気路が所定の形状となって一方向気流の清浄空間1を形成する。
請求項（抜粋）：
クリーンエアの通気路から吹き出されるクリーンエアによって一方向気流の清浄空間を形成するにあたり、所定の通気抵抗を有する変形自在な薄膜によってクリーンエアの通気路を構成し、この通気路にクリーンエアの供給源を接続してクリーンエアを供給し、クリーンエアの供給により生じる内圧によって前記通気路を所定の形状に形成し、前記クリーンエアの通気路の一面に設けた複数の細孔からクリーンエアを吹き出すことを特徴とする清浄空間の形成方法。
Fターム (5件)：
3L058BD05 ,  3L058BE02 ,  3L058BF03 ,  3L058BG01 ,  3L058BG03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM