特許
J-GLOBAL ID：200903076543864236
多孔性シリカおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174458
公開番号（公開出願番号）：特開平6-024798
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：
【要約】【構成】 本発明に係る多孔性シリカの製造方法は、少なくとも2つの末端ハロゲン化アセチル基を有する有機化合物と、ケイ酸とを反応させて、得られるSi含有重合体を400°C以上の温度にて焼成することを特徴としている。【効果】 比表面積および孔径を適宜に調節することができ、かつ反応条件によっては極めて大きな比表面積を有する多孔性シリカを調製することができる。
請求項（抜粋）：
比表面積が300m2/g以上であることを特徴とする多孔性シリカ。
IPC (3件)：
C03C 11/00
, C04B 38/06
, C08L 83/00
