特許

J-GLOBAL ID：200903076566800006

半導体製造における洗浄液加熱装置

発明者： 原田 宙幸 ,  亀田 純也
出願人/特許権者： 三菱商事株式会社 ,  株式会社サンテクノ
代理人 (1件)： 豊田 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-114061
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302778
出願日： 1994年04月28日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程においてウエハ等の洗浄に用いられる洗浄液を加熱するための装置として、加熱効率が高くかつ小型化が可能で、しかも信頼性が高い装置を提供する。【構成】 洗浄液流入口および洗浄液流出口が設けられた石英製の容器本体内に、石英からなるヒータ挿入管を設け、そのヒータ挿入管にハロゲンランプ等の光放射型ヒータを設け、容器本体の壁部には内向きの反射面を有するアルミニウム等の金属反射層を設け、その金属反射層の外側に断熱層を設けた構成とする。光放射型ヒータから放射された光は、容器本体内で多重反射を繰返し、輻射によって洗浄液を加熱する。

請求項（抜粋）：

石英からなる容器本体に洗浄液流入口および洗浄液流出口が形成され、かつその容器本体内に、石英からなるヒータ挿入管が設けられており、そのヒータ挿入管には光放射型ヒータが挿入され、さらに前記容器本体の壁部の外面上には、内向きの反射面を有する金属反射層が設けられており、その金属反射層の外側に断熱層が設けられていることを特徴とする、半導体製造における洗浄液加熱装置。