特許

J-GLOBAL ID：200903076578785525

基板処理装置

発明者： 玉井 克典
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-279743
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102353
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 リフターの動作速度を処理液の種類に応じて変更するようにした基板処理装置を提供すること。【手段】 RAM45には、リフターLHについて付与された速度設定パラメータや、リフターLHの動作に関するレシピや、処理液の種類と推奨リフター液種別動作速度との対応テーブルなどが記憶されている。レシピにリフターLHの動作速度が記述されている場合にはそれをリフターLHの動作速度とし、記述されていなければ、動作するリフターLHのポジションの処理槽が貯留する処理液の種類が、前記テーブルに規定の推奨リフター液種別動作速度をリフターLHの動作速度としてマスターコントローラ40が選択し、リフターLHが昇降する。

請求項（抜粋）：

処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽に対して基板を昇降させることによって基板を前記処理液中に浸漬しまたは前記処理液から離脱させるリフターと、前記リフターの動作条件を記憶する動作条件記憶部と、前記動作条件記憶部に記憶された前記動作条件に従って前記リフターの昇降動作を制御する動作条件式リフター制御手段と、を備え、前記動作条件は、前記処理槽にて行われる浸漬処理の処理内容に関連付けて設定された処理用動作速度と、処理液の種類ごとに対応して設定された液種別動作速度と、を含み、前記動作条件式リフター制御手段は、前記処理用動作速度が設定されている場合には前記処理用動作速度を選択し、前記処理用動作速度が設定されていない場合には、前記動作条件記憶部に記憶されている液種別動作速度のうちから、浸漬する処理液の種類に対応する液種別動作速度を選択し、当該動作速度にて前記リフターが動作するように前記リフターを制御することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  C03C 15/00 ,  C23F 1/08 102 ,  H01L 21/304 648

FI (4件)：

C03C 15/00 C ,  C23F 1/08 102 ,  H01L 21/304 648 B ,  H01L 21/306 J

Fターム (14件)：

4G059AA08 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB16 ,  4K057WA19 ,  4K057WM11 ,  4K057WM18 ,  4K057WN01 ,  4K057WN04 ,  5F043DD30 ,  5F043EE02 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40