特許

J-GLOBAL ID：200903076584359724

レジストの洗浄装置及び現像装置

発明者： 塩原 英志
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190123
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045651
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 0.2μm以下の微細なパターンを形成するに当って問題となるパターンの倒れを防止するための低表面張力のリンス液を簡便に供給する。【解決手段】 半導体基板16上に形成されて所望パターンが露光されたレジスト膜に対し、現像処理の後に行われる洗浄処理に用いられるレジストの洗浄装置において、溶液を一時的に収容するための容器8と、この容器8内に濃縮リンス液3を供給するための第1の配管2と、容器8内に純水を供給するための第2の配管7と、濃縮洗浄液3と純水との供給比を調整する機構5,6と、容器8内に供給された濃縮洗浄液と純水とを撹拌して混合する撹拌機構9と、この撹拌機構9により混合された溶液10を洗浄液として、現像カップ19内に配置された基板16上に供給するための洗浄液配管13及びノズル14とを備えている。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されて所望パターンが露光されたレジスト膜に対し、現像処理の後に行われる洗浄処理に用いられるレジストの洗浄装置において、複数種類の溶液を混合する手段と、混合された溶液を洗浄液として前記レジストの洗浄処理に供される空間に供給する手段とを具備してなることを特徴とするレジストの洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 570