特許
J-GLOBAL ID:200903076586619995

粒子加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江原 省吾 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-229775
公開番号(公開出願番号):特開2003-038948
出願日: 2001年07月30日
公開日(公表日): 2003年02月12日
要約:
【要約】【課題】 ガス体から粉粒体粒子を効率的に分離捕集して粒子加工ゾーンに効率よく戻し、洗浄作業も容易とする。【解決手段】 処理容器21内の粉粒体粒子25にガス体を通気して該粒子を乾燥または加工するための粒子加工ゾーン(流動層)24を形成する。粒子加工ゾーン(流動層)形成後に排出されるガス体中の粒子を分離捕集する粒子捕集手段30と、粒子捕集手段30で分離捕集した粒子を吸引して粒子加工ゾーン24に戻すエジェクター31を設ける。粒子捕集手段30は、螺旋状通路30aと、螺旋状通路30aの外側にトラップゲート30gを介して連通する捕集粒子回収室30bとからなり、該捕集粒子回収室30bがエジェクター31の負圧発生部31aに連通されている。
請求項(抜粋):
処理容器内の粉粒体粒子にガス体を通気して該粒子を乾燥または造粒若しくはコーティング処理加工するための粒子加工ゾーンを形成する粒子加工装置において、前記粒子加工ゾーン形成後に排出されるガス体中の粒子を分離捕集する粒子捕集手段と、該粒子捕集手段で分離捕集した粒子を吸引して前記粒子加工ゾーンに戻すエジェクターを具備したことを特徴とする粒子加工装置。
IPC (4件):
B01J 2/16 ,  B01D 45/12 ,  B01J 2/00 ,  F26B 17/10
FI (4件):
B01J 2/16 ,  B01D 45/12 ,  B01J 2/00 B ,  F26B 17/10 C
Fターム (17件):
3L113AA07 ,  3L113AB03 ,  3L113AC01 ,  3L113AC58 ,  3L113AC67 ,  3L113BA02 ,  3L113DA04 ,  3L113DA14 ,  3L113DA24 ,  4D031AC02 ,  4D031AC04 ,  4D031BA01 ,  4D031BA03 ,  4D031BB00 ,  4D031DA01 ,  4G004AA01 ,  4G004BA02

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