半導体基板用吸着ホルダー及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-160463
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031719
出願日： 1994年07月13日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】基板ホルダー上に載置された感光基板が露光される時に、露光光の照射エネルギーによって感光基板周辺領域に生じる不均一な熱膨張をなくす事を目的とする。【構成】感光基板を吸着保持する基板ホルダーを備えた露光装置において、感光基板と基板ホルダーとの接触部は、基板ホルダー上のほぼ中央を中心とした所定幅の環状突出部の複数を中央から径方向に所定の間隔で形成してなり、基板ホルダーの載置面のうち、少なくともパターンの露光領域のサイズとほぼ等しい幅の周辺領域では、突出部の間隔を他の内部領域よりも狭くした露光装置。

請求項（抜粋）：

同心円状の一対の突条を突出部と定義するとき、ホルダー本体と、その上に形成された複数の同心円状の突出部からなり、前記一対の突条の間に開口した排気路が前記ホルダー本体に設けられた半導体基板用吸着ホルダーにおいて、前記突出部同士の間隔が、露光フィールドの大きさにほぼ相当する周辺領域では内部領域より狭い事を特徴とする半導体基板用吸着ホルダー。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B23Q 3/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68

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