特許

J-GLOBAL ID：200903076590476791

洗浄液

発明者： 數村 公子 ,  岡崎 茂俊 ,  内田 季之 ,  金山 尚裕 ,  平松 光夫
出願人/特許権者： 浜松ホトニクス株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-370429
公開番号（公開出願番号）：特開2004-196747
出願日： 2002年12月20日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】十分な抗炎症効果を発揮できる洗浄液を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、マグネシウムイオン及び亜鉛イオンを含む洗浄液である。本発明の洗浄液によれば、マグネシウムイオン又は亜鉛イオンをそれぞれ単独で含む洗浄液の抗炎症効果よりも大きい抗炎症効果が発揮される。従って、生体において、手術や各種外科的処置で炎症の起こり易い部位に洗浄液を使用すると、手術後の炎症等を十分防止できる。また生体で炎症が起こり易い部位に使用する医療器具の洗浄に使用すると、医療器具が清浄に保持され、医療器具による生体の炎症が十分防止される。更に本発明の洗浄液によれば、マグネシウムイオンを単独で含む洗浄液又は亜鉛イオンを単独で含む洗浄液と同程度の抗炎症効果を得るために、マグネシウムイオン及び亜鉛イオン濃度を十分低くできる。このため、頻回に使用してもマグネシウムイオン、亜鉛イオンによる毒性症状の発症を十分抑えることができる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

マグネシウムイオン及び亜鉛イオンを含むことを特徴とする洗浄液。

IPC (4件)：

A61K33/30 ,  A61K33/06 ,  A61P31/00 ,  A61P31/02

FI (4件)：

A61K33/30 ,  A61K33/06 ,  A61P31/00 ,  A61P31/02

Fターム (8件)：

4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086HA03 ,  4C086HA04 ,  4C086MA02 ,  4C086MA17 ,  4C086MA56 ,  4C086ZB32

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-283612
  
• 手術器具保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-238762   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 洗浄液生成装置および洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-072546   出願人：日本インテック株式会社
• 特開平2-283612