ニトリル/フルオロアルコールポリマー含有フォトレジストおよび関連するミクロリソグラフィのための方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：谷義一 , 阿部和夫 , 橋本傳一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-539078
公開番号（公開出願番号）：特表2004-500596
出願日： 2000年11月14日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

ニトリル/フルオロアルコール含有フォトレジストおよびミクロリソグラフィのための関連するプロセスを記載する。これらのフォトレジストはフルオロアルコール官能基およびニトリルを含有する化合物から構成され、それらは共に、これら材料に対して、高い紫外(UV)透明性および塩基性媒質における現像性を付与する。本発明の材料は、特に短波長(たとえば157nm)において高いUV透明性を有し、それは、これらの短波長におけるリソグラフィに関して、本発明の材料を高度に有用なものにする。

請求項（抜粋）：

(a)(i)構造 -C(Rf)(Rf’)OH (式中、RfおよびRf’は、1から約10個の炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になって(CF2)n(nは2から約10である)である)を有するフルオロアルコール官能基を含有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位と、 (ii)構造 (H)(R1)C=C(R2)(CN) (式中、R1は水素原子またはCN基であり;R2はC1〜C8アルキル基、水素原子またはCO2R3基(R3はC1〜C8アルキル基または水素原子である)である)を有する少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される反復単位とを含むポリマーと; (b)少なくとも1つの光活性成分とを含むことを特徴とするフォトレジスト。

IPC (7件)：

G03F7/033 , C08F216/14 , C08F220/42 , C08F232/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (7件)：

G03F7/033 , C08F216/14 , C08F220/42 , C08F232/00 , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA17 , 4J100AE09P , 4J100AM02Q , 4J100AR09P , 4J100AR11P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA08P , 4J100BB12P , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100FA19 , 4J100JA38

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