特許
J-GLOBAL ID：200903076608608755
オゾン処理システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大胡 典夫
, 竹花 喜久男
, 宇治 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238887
公開番号（公開出願番号）：特開2004-075466
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】オゾン処理に必要なオゾン濃度と量に合わせて、効率よく低濃度から高濃度のオゾンを生成できる、取り扱いが簡便でコンパクトなオゾン処理システムを提供すること。【解決手段】濃縮酸素を原料としてオゾン発生器23によって高濃度オゾンを生成すると共に、必要に応じてこの高濃度オゾンと薄め用のガスとを混合器13で混合させ、必要とする濃度のオゾンを任意に効率よく生成する。この結果、処理対象の条件に対応した濃度のオゾンによりオゾン処理を行なうことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
濃縮酸素ガスを原料として生成した高濃度オゾンを供給する高濃度オゾン供給路と、
前記高濃度オゾンを薄めるための薄め用のガスを任意に供給可能な薄めガス供給路と、
前記高濃度オゾン供給路から供給される高濃度オゾンと薄めガス供給路から供給される薄めガスとを混合させ、任意の濃度のオゾンを生成する混合器と、
を備えたことを特徴とするオゾン処理システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4G035AA01
, 4G035AE13
, 4G042AA07
