特許

J-GLOBAL ID：200903076616292406

スクリ-ン印刷機の清掃装置

発明者： 八幡 聡 ,  三階 春夫
出願人/特許権者： 日立テクノエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031906
公開番号（公開出願番号）：特開平5-229108
出願日： 1992年02月19日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】 マスクにインク残渣が残らず、また基板を汚染せず、常に鮮明な印刷が行えるスクリ-ン印刷機の清掃装置を提供することを目的とする。【構成】 布6を押し付けて摺動させる際のその布6が接触するマスク2の部位における開孔に、上記布6に向かう空気流を形成する手段を設ける。この結果、マスク2の開孔に布に向かう空気流が形成されるので、マスク2の開孔におけるインク残渣が上述の空気流で開孔の内側壁から引き剥がされて出て来るため、布6で拭取ることが容易となる。また、空気流が布6の繊維の解離を阻止するので、布6の繊維が基板に転移しなくなる。従って、清掃効果が大であって、マスク2にインク残渣が残らず、また基板が汚染されず、しかも常に鮮明な印刷を行うことができる。

請求項（抜粋）：

マスクの印刷面に布を押し付けて摺動させて、上記マスクのインク残渣を拭取るスクリ-ン印刷機の清掃装置において、上記布を押し付けて摺動させる際の上記布が接触する上記マスクの部位における開孔に、上記布に向かう空気流を形成する手段を備えたことを特徴とするスクリ-ン印刷機の清掃装置。

IPC (3件)：

B41F 35/00 ,  B41F 15/12 ,  B41F 15/34

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-201565
  
• 特開昭63-092456
  
• 特開平2-076740
  
• 特開昭63-302047
  
• 特開平2-164539