特許

J-GLOBAL ID：200903076629585674

基板処理方法及びその装置

発明者： 小路丸 友則 ,  村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-140759
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319736
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】 基板処理槽内での処理液の滞留を防止する基板処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 基板処理槽1内の底部の両側に配設した処理液供給管30から、基板処理槽1内の基板Wの下方側に処理液を供給する。基板Wの下方側で合流した処理液は、そこから基板Wに沿って上方に流れる。基板処理槽1の上部にまで流れた処理液は、その上部外周縁からオーバーフローする。この時、処理液の一部は、オーバーフローされずに基板処理槽1の側壁に沿って下方に流れる。基板処理槽1の側壁に設けられた排出口51は、オーバーフローを維持させながら、その処理液を排出する。したがって、基板処理槽1内の処理液は、オーバーフローとともに、排出口51から排出されるので、基板処理槽1内で処理液が滞留することを防止して、効率良く槽内の処理液を置換することができる。

請求項（抜粋）：

基板処理槽内に貯留した処理液に基板を浸漬して基板処理を行なう基板処理方法であって、前記基板が浸漬された処理液が貯留する基板処理槽内に新たな処理液を供給して、前記基板処理槽から処理液をオーバーフローさせるとともに、前記オーバーフローとは別に前記基板処理槽内に滞留する処理液を排出することを特徴とする基板処理方法。

IPC (4件)：

B08B 3/08 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 642

FI (4件)：

B08B 3/08 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/30 569 B