露光方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-023107
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199405
出願日： 1996年01月16日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】露光装置の高スループット、小型・省スペース化を実現する。【解決手段】露光中の感光基板16上の被露光領域の露光位置への位置決めのための感光基板16の移動の際に、周辺露光用照射光学系18a〜18dからの光ビームを照射して感光基板16上の被露光領域の周辺領域を露光する。このため、レチクルパターンの所定の被露光領域への投影露光が行なわれる間にステージ装置17上で周辺露光を行なうことができ、所定の被露光領域の露光時間とは別の周辺露光時間が不要になるとともに周辺露光装置を別に設けなくて良い。従って、スループットの向上を図ることができるとともに装置の小型・省スペース化を実現することができる。

請求項（抜粋）：

感光基板上の所定の被露光領域を露光位置に順次位置決めしつつ、マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して前記感光基板上に順次転写露光する露光方法であって、前記位置決めのための前記感光基板の移動の際に、複数の周辺露光用照射光学系からの光ビームを照射して前記感光基板上の前記被露光領域の周辺領域を露光する露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 101 , G03F 7/22

FI (3件)：

H01L 21/30 577 , G02F 1/13 101 , G03F 7/22 H

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