特許
J-GLOBAL ID：200903076658713398

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
塩澤 崇永

塩澤 崇永 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-097068
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284228
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【課題】 正確に露光量制御が行え、照度むらや露光むらを 軽減できる露光装置を提供すること。【解決手段】 エキシマレーザ1からのレーザ光を偏光解消ユニット2により偏光解消し、この偏光解消したレーザ光をフライアイレンズ31により波面分割することにより互いに偏光状態が異なる複数の光を含む複数の光を形成し、この互いに偏光状態が異なる複数の光を含む複数の光をレンズ系32によってオプティカルインテグレータ4の光入射面上で重ね、オプティカルインテグレータ4の各棒状レンズに入射する光をそれぞれが十分に偏光解消されていて且つ互いに偏光状態が同じとすることで、オプティカルインテグレータ4から十分に偏光解消されていて且つ互いに偏光状態が同じ複数の光をビームスプリッタ7と光量検出手段8や折り曲げミラー11を含む下流の光学系に供給する。
請求項（抜粋）：
レーザからの光を用いて形成した複数の光束によりマスクを照明して該マスクのパターンで基板を露光する露光装置において、前記複数の光束のそれぞれを実質的に無偏光化(偏光解消)する手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G02B 27/28 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
G02B 27/28 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (8件)：
2H099AA11 ,  2H099BA09 ,  2H099CA05 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB13
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 特開平3-016114
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-177578   出願人：株式会社ニコン
  • 特公平3-046802
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