特許
J-GLOBAL ID:200903076659608164

シリコーン水性エマルジョン型離型剤およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-187728
公開番号(公開出願番号):特開平9-012886
出願日: 1995年06月30日
公開日(公表日): 1997年01月14日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 ペインタブル性に優れた離型性皮膜を形成し、かつ、これを各種基材に塗布しても下方に流れ落ち難いシリコーン水性エマルジョン型離型剤およびその製造方法を提供する。【構成】 一般式(1):{式中、RはC1〜7の一価炭化水素基であり、R1はC8以上の一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水素基であり、R3は一価炭化水素基もしくは水酸基であり、Xは加水分解性基であり、AはR,R1および式:-R2-SiR3dX(3-d)で示される基からなる群から選択される基である(ただし、cが0の場合にはAの少なくとも1個は式:-R2-SiR3dX(3-d)で示される基である。)。aは0または正数であり、bは正数であり、cは0または正数である。}で示されるジオルガノポリシロキサンの縮合反応生成物を主剤とするシリコーン水性エマルジョン型離型剤およびその製造方法。
請求項(抜粋):
一般式(1):【化1】{式中、Rは炭素原子数が1〜7の一価炭化水素基であり、R1は炭素原子数が8以上の一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水素基であり、R3は一価炭化水素基もしくは水酸基であり、Xは加水分解性基であり、AはR,R1および式:-R2-SiR3dX(3-d)(式中、R2,R3およびXは前記と同じであり、dは0,1または2である。)で示される基からなる群から選択される基である(ただし、cが0の場合にはAの少なくとも1個は式:-R2-SiR3dX(3-d)で示される基である。)。aは0または正数であり、bは正数であり、cは0または正数であり、a/(a+b+c)=0〜0.2であり、c/(a+b+c)=0〜0.2であり、dは0,1または2である。}で示されるジオルガノポリシロキサンの縮合反応生成物を主剤とするシリコーン水性エマルジョン型離型剤。
IPC (3件):
C08L 83/04 LRR ,  C08G 77/06 NUB ,  C08L 83/07
FI (3件):
C08L 83/04 LRR ,  C08G 77/06 NUB ,  C08L 83/07
引用特許:
出願人引用 (10件)
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