特許
J-GLOBAL ID：200903076666079789
接合構造体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-028818
公開番号（公開出願番号）：特開平7-214369
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【目的】 溶融部の爆飛を抑制し,良好で安定したレーザ溶接をすることができる,安価な接合構造体及びその製造方法を提供すること。【構成】 レーザ照射面15を有する第1部材1と,レーザ照射面15と反対側に配置され,かつ第1部材1よりもレーザ吸収率が高い第2部材2とよりなる。第1部材1のレーザ照射面15側には,第1部材1よりもレーザ吸収率が高い第1被膜11を配設する。第1部材1と第2部材2との間には接合層3を介在させる。接合層3は,第1部材1側に配設された第1部材1よりもレーザ吸収率が高いか又は第1部材1よりも融点が低い第3被膜23と,第2部材側に配設された第2部材よりもレーザ吸収率が低いか又は第1部材1よりも融点が高い第2被膜22とからなる。
請求項（抜粋）：
レーザ照射面を有する第1部材と,レーザ照射面と反対側に配置され,かつ該第1部材よりもレーザ吸収率が高い第2部材とよりなる接合構造体において,上記第1部材のレーザ照射面には,第1部材よりもレーザ吸収率が高い第1被膜を配設し,上記第1部材と上記第2部材との間には,第1部材側に配設された上記第1部材よりもレーザ吸収率が高い第3被膜と,第2部材側に配設された上記第2部材よりもレーザ吸収率が低い第2被膜とからなる接合層を設けてなり,これらはレーザ溶接により一体的に溶接されていることを特徴とする接合構造体。
IPC (3件)：
B23K 26/18
, B23K 26/00 310
, B23K 26/00
