特許

J-GLOBAL ID：200903076677420784

分離膜モジュール及びその製造方法

発明者： 古川 茂伸
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022384
公開番号（公開出願番号）：特開2003-220319
出願日： 2002年01月30日
公開日（公表日）： 2003年08月05日
要約：

【要約】【課題】ガス分離、限外濾過、精密濾過等の分離性能を有する小型の分離膜モジュールを提供する。【解決手段】平均粒子径が0.1μm〜5.0μmのα-アルミナ粒子2からなる多孔質支持体1の表面に、平均粒子径が0.01μm〜0.3μmの易焼結性α-アルミナ粒子4からなる多孔質層3を0.1〜10.0μmの層厚みで形成するとともに、上記多孔質層3上に平均細孔径が0.1nm〜10nmの分離膜層5を形成し、かつ分離膜成分の一部を上記多孔質層3中に含浸させて含浸層6を設けることにより分離膜モジュールを形成する。

請求項（抜粋）：

平均粒子径が0.1μm〜5.0μmのα-アルミナ粒子からなる多孔質支持体の表面に、平均粒子径が0.01μm〜0.3μmのα-アルミナ粒子からなる多孔質層を0.1〜10.0μmの層厚みで備えるとともに、上記多孔質層上に平均細孔径が0.1nm〜10nmの分離膜層を備えてなり、該分離膜成分の一部が上記多孔質層中に含浸した含浸層を有することを特徴とする分離膜モジュール。

IPC (2件)：

B01D 69/10 ,  B01D 71/02

FI (2件)：

B01D 69/10 ,  B01D 71/02

Fターム (11件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006GA41 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB16 ,  4D006MC01X ,  4D006NA45 ,  4D006NA49 ,  4D006NA62 ,  4D006NA64