特許

J-GLOBAL ID：200903076685519420

荷電粒子ビーム照射装置

発明者： 秋山 浩 ,  松田 浩二 ,  平本 和夫 ,  加藤 公平 ,  鈴木 一道
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-314419
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113118
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】照射対象に複数の方向からビームを照射する場合に、コストを低減することができる荷電粒子ビーム照射装置を提供することにある。【解決手段】ワブラ電磁石,散乱体,レンジモジュレータ,患者コリメータ,患者ボーラス等により構成される照射ノズル部105a〜cを、照射対象に対して異なる複数の方向から荷電粒子ビームを出力する複数の照射ポート102a〜bで共用する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームが照射される照射対象に対して異なる複数の方向から荷電粒子ビームを出力する複数の照射ポートと、前記照射対象に応じて前記照射ポートから出力される荷電粒子ビームの特性を変化させる機器とを有する荷電粒子ビーム照射装置において、前記機器を前記複数の照射ポートで共用することを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。

FI (2件)：

A61N 5/10 H ,  A61N 5/10 D

Fターム (8件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG13 ,  4C082AG26 ,  4C082AG51 ,  4C082AG52

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特許第2836446号
  
• 荷電粒子照射システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-368760   出願人：三菱電機株式会社
• 特許第2836446号