特許

J-GLOBAL ID：200903076685962545

ニフエジピン含有固形製剤の製造方法

発明者： 小久保 宏恭 ,  西山 裕一 ,  武藤 泰明
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331143
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139973
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】本発明はニフェジピン含有量が高く、かつ放出速度の速いニフェジピン含有固形製剤を効率よく製造する方法を提供する。【構成】このニフェジピン含有固形製剤の製造方法は、ニフェジピン1重量部とヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドンまたはこれらの2種以上の混合物 1.5〜6重量部とを有機溶剤に溶解し、この溶液をデンプン、セルロースまたはこれらの混合物1〜15重量部と軽質無水ケイ酸、含水二酸化ケイ素またはこれらの混合物2〜6重量部とからなる賦型剤に吸収させ、造粒するものである。

請求項（抜粋）：

ニフェジピン1重量部とヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドンまたはこれらの2種以上の混合物 1.5〜6重量部とを有機溶剤に溶解し、この溶液をデンプン、セルロースまたはこれらの混合物1〜15重量部と軽質無水ケイ酸、含水二酸化ケイ素またはこれらの混合物2〜6重量部とからなる賦型剤に吸収させ、造粒することを特徴とするニフェジピン含有固形製剤の製造方法。

IPC (5件)：

A61K 31/455 ,  A61K 9/14 ,  A61K 9/20 ,  A61K 47/32 ,  A61K 47/38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-206039
  
• 特開昭63-112519
  
• 特開昭56-068619