特許

J-GLOBAL ID：200903076695729180

光導波路素子およびその製造方法

発明者： 岡庭 香
出願人/特許権者： ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-328729
公開番号（公開出願番号）：特開平8-184718
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【構成】 光導波路素子の導波層、クラッド層、接着性増強層の材料として特定の含フッ素ポリイミドを使用する。【効果】 石英系導波路ではできない光導波路素子作製プロセスの簡単化、低コスト化、フレキシブル化を図ることができ、従来のプラスチック系導波路では達成できなかった単一モード性、1.3ミクロン帯の低損失化、高耐湿性化が可能である。

請求項（抜粋）：

導波層が下記一般式I【化1】(式中、R1は下記式II【化2】で表される基のうちいずれかの基であり、R2は下記式III【化3】で表される基のうちいずれかの基であり、Xは独立して下記式IV【化4】で表される基のうちいずれかの基であり、Rf、R’fおよびR”fはそれぞれ独立して下記式V【化5】で表される基のうちいずれかの基である)で表される繰り返し単位を1種またはそれ以上有する感光性含フッ素ポリイミドを含むことを特徴とする光導波路素子。

IPC (3件)：

G02B 6/12 ,  C08G 73/10 NTF ,  G02B 6/13

FI (2件)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M