特許
J-GLOBAL ID：200903076697492641
ウェーハ研磨用研磨布若しくは研磨定盤からなる研磨体及び該研磨体を用いたウェーハ研磨方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-103934
公開番号（公開出願番号）：特開平11-285963
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【解決手段】 研磨布のウェーハ摺動面に設けた溝密度を一定化させることなく、ウェーハの連れ回り方向に作用する摩擦力が大きくなるように前記溝密度を変化させ、研磨布中心部位に対し周縁部位の溝密度を増加させたことを特徴とする。【効果】 ウェーハまたはウェーハ保持治具が安定して自転することにより、研磨ウェーハの平坦度が改善される。
請求項（抜粋）：
ウェーハとの間で相対的速度差をもって摺動させながら該ウェーハの研磨を行なう研磨布若しくは研磨定盤からなる研磨体において、前記研磨体のウェーハ摺動面に所定間隔毎に溝を設けると共に、該研磨体の周速度が大きい部位の溝密度を、周速度が小さい部位の溝密度に対し増加させたことを特徴とするウェーハ研磨用研磨体。
IPC (3件)：
B24B 37/00
, B24B 37/04
, H01L 21/304 622
B24B 37/00 C
, B24B 37/04 A
, H01L 21/304 622 F
