特許
J-GLOBAL ID：200903076712146682
干渉計
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平田 忠雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022768
公開番号（公開出願番号）：特開平8-219737
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 被計測面の形状に拘束されることなく高精度で物体の計測等を行うこと。【構成】 被計測物6の被計測面6aに光を照射する波面変換部5と被計測面6aの相対位置姿勢を回転ステージ11A,X-Yステージ11B,Zステージ11Cで所定量ずつ変化させて被計測面6aの部分領域の干渉縞を採取する。採取した複数の部分領域の干渉縞をつなぎ合わせて被計測面6aの全面の干渉縞を生成する。
請求項（抜粋）：
基準波面と被計測波面を干渉させて生じる干渉縞に基づいて被計測波面の形状を計測する干渉計において、光軸に垂直な面内の直交する2方向において異なる焦点距離を有し、被計測面に前記光軸方向に光を照射して前記基準波面と干渉する前記被計測波面を生成する干渉光学系と、前記被計測面を有した被計測物と前記干渉光学系との相対位置姿勢を所定量ずつ変化させる相対位置姿勢変化手段と、前記相対位置姿勢に応じて、前記干渉光学系によって前記被計測面の部分領域毎に生成された前記被計測波面に基づいた干渉縞を検出する干渉縞検出部と、前記部分領域毎に生成された前記干渉縞を合成して前記被計測面の干渉縞を生成する干渉縞合成部を備えたことを特徴とする干渉計。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G01B 9/02
, G01N 21/45
G01B 11/24 D
, G01B 9/02
, G01N 21/45 A
