ウエハ温度モニタ装置、膜厚モニタ装置及びウエハ温度膜厚モニタ装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-070812
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271151
出願日： 1998年03月19日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】膜厚の変化や雰囲気ガスの温度変化に影響されることなく、半導体ウエハの温度を正確に測定することができるウエハ温度モニタ装置を提供すること。【解決手段】パターンにレーザ光Lを照射するHe-Neレーザ装置12と、パターンにおいて反射した回折光Pを受光するCCDカメラ13,14、これらCCDカメラ13,14とパターンとの間に設けられ、CCDカメラ13,14との距離がその焦点距離fとなるように配置された凸レンズ15,16と、CCDカメラ13,14上に結像したスポット像M1,M2の位置に基づいて半導体ウエハWの温度を算出する演算部17とを備えるようにした。

請求項（抜粋）：

所定のパターンが形成されたウエハの温度をモニタするウエハ温度モニタ装置において、前記パターンにレーザ光を照射するレーザ光照射部と、前記パターンにおいて反射した回折光を受光するセンサと、このセンサと前記パターンとの間に設けられ、前記センサとの距離がその焦点距離となるように配置されたレンズと、前記センサ上に結像したスポット像の位置に基づいて前記ウエハの温度を算出する演算部とを備えていることを特徴とするウエハ温度モニタ装置。

IPC (2件)：

G01K 13/00 , G01B 11/06

FI (2件)：

G01K 13/00 , G01B 11/06 G

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-088929
特開平3-280232
特開昭62-088929

全件表示

前のページに戻る