特許

J-GLOBAL ID：200903076747745929

プラズマ装置

発明者： 田嶋 直樹 ,  滝 薫 ,  高木 茂行 ,  内田 裕 ,  岡本 昇
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-176443
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022098
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】本発明は、大面積基板の処理を行うときの活性種密度を均一化する。【解決手段】マイクロ波導波管9のH面にスロット21、22を形成し、自由空間を伝搬するマイクロ波の波長をλo 、マイクロ波導入窓10の誘電率をε、マイクロ波導波管9内を伝搬するマイクロ波の波長をλg 、nを整数とすると、スロット幅dをd≦λo /5に形成し、スロット間距離Dを【数1】に形成し、かつスロット長さLを(2n/3)・λg /2≦L≦(4n/3)・λg /2を満足するように形成する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導波管を伝搬してきたマイクロ波をスロットからマイクロ波導入窓を通して気密容器に導入し、この気密容器内の媒質ガスを励起するプラズマ装置において、前記スロットを前記マイクロ波導波管内に進行する前記マイクロ波の電界方向に垂直な面(H面)に複数をほぼ互いに平行に形成し、かつ前記スロットは、自由空間を伝搬するマイクロ波の波長をλo とすると、d≦λo /5を満足するスロット幅dに形成したことを特徴とするプラズマ装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H05H 1/46 B ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/302 A