特許

J-GLOBAL ID：200903076765827088

帯電緩和膜、画像形成装置、およびその製造方法

発明者： 大栗 宣明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 勝 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051224
公開番号（公開出願番号）：特開2000-154372
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】 スペーサ用の高抵抗膜の成膜の再現性が難しい。熱工程で抵抗値が変化しやすい。【解決手段】 ゲルマニウムと遷移金属とを含む窒素化合物を有する帯電緩和膜10c。ゲルマニウムと遷移金属とを含む窒素化合物を有し、ゲルマニウムの窒化率が50%以上である帯電緩和膜10c、外囲器8内に、電子放出素子1、画像形成部材5、及び、スペーサ10とを備える画像形成装置において、スペーサ10は基材表面に、帯電緩和膜10cを有するスペーサである。

請求項（抜粋）：

ゲルマニウムと遷移金属とを含む窒素化合物を有することを特徴とする帯電緩和膜。

IPC (4件)：

C09K 3/16 101 ,  C09K 3/16 ,  G09F 9/30 324 ,  H05F 1/02

FI (4件)：

C09K 3/16 101 C ,  C09K 3/16 101 Z ,  G09F 9/30 324 ,  H05F 1/02 E

Fターム (14件)：

5C094AA03 ,  5C094AA33 ,  5C094AA53 ,  5C094AA55 ,  5C094BA21 ,  5C094CA19 ,  5C094EC04 ,  5C094FB16 ,  5C094GB01 ,  5C094JA05 ,  5C094JA08 ,  5G067AA42 ,  5G067CA01 ,  5G067DA12