特許
J-GLOBAL ID：200903076771406507
画像処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-246229
公開番号（公開出願番号）：特開平6-096222
出願日： 1992年09月16日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 従来のRMW(リード・モディファイ・ライト)処理と同等の処理時間で画質の低下を招くことなく画素の濃度を決定する。【構成】 LUT回路42は濃度DATA,面積率K,濃度DmとからRMW処理により順に画素濃度を求め、バッファ43a〜43cは左画素,対象画素,右画素の各濃度を出力A,B,Cとして出力し、演算部44は出力Bを他の画素と比較して対象画素の濃度Dnを決定しフレームメモリに出力する。即ち、(1)左右の画素、又は(2)更に読出した隣接ラインの3画素を併せた5個の画素と比較し、いずれの濃度よりも低ければ隣接画素のいずれかの濃度又はA,Cの平均値をDnとする。(3)出力A,Cの範囲内に入らなければ、その中間値をDnとする。上記以外の時は出力BをDnとする。これにより、エッジ部の濃度が両側の領域濃度から外れて画質を低下させることがない。
請求項（抜粋）：
ベクトルで表示されたエッジにより形成された画像の前記エッジに囲まれた領域を塗りつぶすため、対象画素のアンチ・エイリアシング処理した濃度をリード・モディファイ・ライト処理することによりフレームメモリ上に書込む対象画素の濃度を決定する画像処理装置において、リード・モディファイ・ライト処理された前記対象画素の面積率が1未満であって、その濃度が前記フレームメモリ上の前記対象画素の左右に隣接する2個及び既にリード・モディファイ・ライト処理されたスキャンライン上の前記対象画素に隣接する3個の各画素のうちのいずれの濃度よりも低い場合は、前記隣接する5個の画素のうちのいずれかの濃度を前記対象画素のフレームメモリに書込む濃度とする濃度決定手段を設けたことを特徴とする画像処理装置。
IPC (2件)：
G06F 15/72 350
, G06F 15/68
