特許
J-GLOBAL ID：200903076771579037
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-214109
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066181
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 パーティクルの発生を防止することができ、また試料Sに均一なプラズマ処理を施すことができ、さらに例えば試料Sにエッチング処理を施す場合における試料Sの金属汚染を防止することができながら、しかも低コスト化及び装置製造の効率化を図ることができるプラズマ処理装置10を提供すること。【構成】 マイクロ波による電界と磁石または電磁コイルによる磁界とを利用してプラズマを発生させるプラズマ室11、及び試料Sを装着する試料台15と試料台15を囲むように配置された防着板17とが配設された反応室13を備えたプラズマ処理装置10において、防着板17には1個以上のノズル孔17aが形成され、反応室13の周壁13cにはガス吹出孔20bを有する反応ガス導入部28が配設され、ガス吹出孔20bには耐プラズマ性の材料を用いて形成されたガス導入ノズル22がノズル孔17aを貫通して着脱可能に差し込まれているプラズマ処理装置10。
請求項（抜粋）：
マイクロ波による電界と磁石または電磁コイルによる磁界とを利用してプラズマを発生させるプラズマ室、及び試料を載置する試料台と該試料台を囲むように配置された防着板とが配設された反応室を備えたプラズマ処理装置において、前記防着板には1個以上のノズル孔が形成され、前記反応室の周壁にはガス吹出孔を有する反応ガス導入部が配設され、前記ガス吹出孔には耐プラズマ性の材料を用いて形成されたガス導入ノズルが前記ノズル孔を貫通して着脱可能に差し込まれていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/205
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
