特許
J-GLOBAL ID：200903076779423982
リードフレームの洗浄および乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-106609
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299572
出願日： 1992年04月24日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 有機溶剤を用いないリードフレームの洗浄・乾燥装置を提供する。【構成】 純水と界面活性剤を主体とする洗浄液で満たす第1と第2の洗浄槽(5)(6)と、すすぎ用の純水で満たす第3と第4の洗浄槽(7)(8)、および乾燥部(2)を直列に配置する。順路に従わせるようにワーク(3)を搬送するための搬送手段(22)を設ける。第1の洗浄槽(5)の噴出ノズル(19)の先端は液面より下とする。第4の洗浄槽(8)の液温を他より高温にする。乾燥ブロア(21)はリードフレーム(23)の厚み方向に移動可能とする。乾燥部(2)の最後尾にワーク(3)を一時停止させるストッパー手段(33)を設ける。
請求項（抜粋）：
界面活性剤と水を主成分とする洗浄液と、前記洗浄液を入れる洗浄槽と、前記洗浄液を噴出するノズルとを有し、前記ノズルの先端を前記洗浄槽の洗浄液の液面より下に配置したことを特徴とするリードフレームの洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 23/50
, C23G 3/00
, F26B 15/00
