高分子基材のグラフト化処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤良博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-092895
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278327
出願日： 1994年04月07日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【構成】放射線またはプラズマの照射により、ラジカル重合性化合物を高分子基材にグラフト重合させるグラフト化処理方法において、当該高分子基材が、当該高分子物素材に結晶核剤を添加して成る高分子基材のグラフト化処理方法。【効果】グラフト化の反応効率を向上させることができ、グラフト化反応効率の向上から基材を劣化させるような放射線照射条件等をより厳しいものにする必要もなく、グラフト化反応時間の短縮から生産効率を向上することができる。

請求項（抜粋）：

放射線またはプラズマの照射により、ラジカル重合性化合物を高分子基材にグラフト重合させるグラフト化処理方法において、当該高分子基材が、当該高分子物素材に結晶核剤を添加して成ることを特徴とする高分子基材のグラフト化処理方法。

IPC (3件)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 305 , C08F253/00 MQC

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