特許

J-GLOBAL ID：200903076823085879

基板処理装置の処理液供給ノズル

発明者： 吉井 弘至 ,  笹田 滋
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-054427
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256116
出願日： 1997年03月10日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 先端部を超親水化することによって、ぼた落ちが防止できるとともに先端部の洗浄を短時間で行うことができる。【解決手段】 基板の表面に現像液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、現像液を吐出する吐出孔7bが形成された先端部7を超親水性材料で形成した。つまり、先端部7の外周面および下面は、超親水性層Sによって形成されている。したがって、それらの部分は接触角がほぼ0°となり、現像液Dの一部が付着しても球状の液滴とならず薄い膜状に拡がるので『ぼた落ち』が防止でき、洗浄液が先端部7と馴染みやすくなっているので、付着した現像液Dを容易に離脱させることができる。

請求項（抜粋）：

基板の表面に処理液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記処理液を吐出する吐出孔が形成された先端部を超親水性材料で形成したことを特徴とする基板処理装置の処理液供給ノズル。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05B 1/00 ,  G03F 7/30 502

FI (4件)：

H01L 21/30 569 C ,  B05B 1/00 Z ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 564 C