特許

J-GLOBAL ID：200903076825344600

湿式成膜装置

発明者： 金原 正明 ,  大平 武征
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-162054
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331652
出願日： 1992年05月28日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【目的】 成膜形成が阻害されることなく、連続成膜を行うことができる湿式成膜装置を提供すること。【構成】 1つの槽1の中に別の槽3を設置し、処理液2を循環ポンプ20により循環させ、処理液2がウエハ5面を流動する間にウエハ5の面上に薄膜を形成させるようにした湿式成膜装置において、循環ポンプ20と槽3を結ぶ配管途中に2系列のフィルタ22,23を並列に設置し、タイマー信号或いはフィルタづまりを知らせる信号により処理液が通過するフィルタが交互に切り換えられるように構成し、処理液が通過しなくなったフィルタに先ず洗浄液を、次に純水を流し、最後にN2ガス或いは清浄空気を順次通過させる洗浄手段を設けた。

請求項（抜粋）：

1つの槽の中に別の槽を設置し、外側の槽の処理液を循環ポンプにより内側の槽に送り、内側の槽から外側の槽へオーバーフローさせて処理液を循環させ、前記内側の槽にウエハを設置し、前記処理液が該ウエハ面を流動する間にウエハ面上に薄膜を形成させるようにした湿式成膜装置において、前記循環ポンプと前記内側の槽を結ぶ配管途中に2系列のフィルタを並列に設置し、タイマー信号或いはフィルタづまりを知らせる信号により前記処理液が通過するフィルタが交互に切り換えられるように構成し、該処理液が通過しなくなったフィルタに先ず洗浄液を、次に純水を流し、最後にN2ガス或いは清浄空気を順次通過させる洗浄乾燥手段を設けたことを特徴とする湿式成膜装置。

IPC (5件)：

C23C 18/31 ,  C25D 17/00 ,  C25D 21/16 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351