特許

J-GLOBAL ID：200903076846392540

放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法、および放射線像変換パネルの製造方法

発明者： 松本 宏志 ,  高須 厚徳
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-071866
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267800
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 ストラクチャノイズのレベルが低減され、良好な画質の放射線像変換パネルを製造し得る蛍光体層塗布液の調製方法、および放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。【解決手段】 (1)少なくとも、蛍光体原料粉体を焼成して輝尽性蛍光体粉体を得る焼成工程と、得られた輝尽性蛍光体粉体を、結合剤を溶解させた溶剤中に分散させる調液工程とからなり、焼成に供する前記蛍光体原料粉体を、分散度により管理する放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法。(2)少なくとも、輝尽性蛍光体粉体を、結合剤を溶解させた溶剤中に分散させる調液工程を含み、該調製工程において、前記溶剤中に分散させる輝尽性蛍光体粉体を、分散度により管理する放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法。(3)上記(1)および(2)のいずれかの調製方法により得られた蛍光体層塗布液からなる蛍光体層を支持体上に形成する放射線像変換パネルの製造方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも、蛍光体原料粉体を焼成して輝尽性蛍光体粉体を得る焼成工程と、得られた輝尽性蛍光体粉体を、結合剤を溶解させた溶剤中に分散させる調液工程と、からなる放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法であって、前記焼成工程において、焼成に供する前記蛍光体原料粉体を、分散度により管理することを特徴とする放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法。

IPC (6件)：

G21K 4/00 ,  G01T 1/00 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/02 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/61 CPF

FI (6件)：

G21K 4/00 L ,  G01T 1/00 B ,  C09K 11/00 B ,  C09K 11/02 Z ,  C09K 11/08 B ,  C09K 11/61 CPF

Fターム (13件)：

2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083DD20 ,  2G083EE02 ,  4H001CA01 ,  4H001CA08 ,  4H001CC13 ,  4H001CF02 ,  4H001XA09 ,  4H001XA53 ,  4H001XA56 ,  4H001YA63