特許
J-GLOBAL ID：200903076848182178
軟磁性薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有近 紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-149936
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014738
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】 小さい保磁力と高い角形ヒステリシス特性の軟磁性薄膜を得る。【構成】 鉄とニッケルとを電気めっきにより導体上へ一層が50nm以下の厚さで,交互に析出して多層薄膜を形成し、この多層薄膜に300〜800°Cの温度で熱処理を施して、鉄・ニッケル合金の軟磁性薄膜を製造する。【効果】 小さい保磁力と高い角形ヒステリシス特性の軟磁性薄膜を容易に安定して製造できるようになる。
請求項（抜粋）：
鉄とニッケルとを電気めっきにより導体上へ一層が50nm以下の厚さで,交互に析出して多層薄膜を形成し、この多層薄膜に300〜800°Cの温度で熱処理を施すことにより熱拡散せしめ電着応力を緩和し、導体上に鉄・ニッケル合金の軟磁性薄膜を製造することを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01F 41/26
, C25D 5/12
, G11B 5/31
, H01F 10/14
