特許
J-GLOBAL ID：200903076857748346

試料の1つ又は複数の特性を決定するための方法とシステム

発明者：
ジャンオウ・シ

ジャンオウ・シ について

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ジェフリー・ルゼピエラ

ジェフリー・ルゼピエラ について

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シユウ・ペイ

シユウ・ペイ について

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ズィウェイ・シュ

ズィウェイ・シュ について

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ジョン・アレクサンダー

ジョン・アレクサンダー について


出願人/特許権者：
ケーエルエー・テンコール・テクノロジーズ・コーポレーション

ケーエルエー・テンコール・テクノロジーズ・コーポレーション について


代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-081319
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277417
出願日： 2005年03月22日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】半導体ウェハ等の試料に関する少数キャリア拡散長とこれに基づく試料内の汚染レベルを決定する主システム並びに試料の電気的欠陥マップを検出するサブシステムを提供する。【解決手段】試料の特性を決定する主システムは、異なる波長の光源10,12の光を実質的に同時に試料26に照射するように構成する。異なる波長の光は、変調器14により実質的に同じ周波数で変調される。主システムは、さらに、試料26に対し少なくとも2回の測定を実行するように構成する。試料26の少数キャリア拡散長は、異なる波長での試料の測定と吸収係数から決定する。試料26上の欠陥を検出するサブシステムは、試料26の上面上の複数の位置に電荷を堆積するように構成する。このサブシステムは、複数の位置でプローブ22の振動を測定するように構成する。試料26上の欠陥は、測定された表面電圧から生成された試料26の二次元マップを使用して検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料の特性をその試料に接触せずに決定するように構成されているシステムであって、 前記試料上の測定スポットに異なる波長の光を実質的に同時に照射するように構成されている、実質的に同じ周波数で変調される2つの光源と、 前記試料上で少なくとも2回の測定を実行するように構成されているプローブであって、前記少なくとも2回の測定はそれぞれ、前記2つの光源のうちの一方により前記試料への照射により行われる、プローブと、 前記異なる波長で前記試料の前記少なくとも2つの測定結果と吸収係数から前記試料の少数キャリア拡散長を決定するように構成されたプロセッサと を備えるシステム。
IPC (1件)：
H01L21/66
FI (1件)：
H01L21/66 M
Fターム (10件)：
4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA08 ,  4M106CA29 ,  4M106CB11 ,  4M106DA15 ,  4M106DH11 ,  4M106DH13 ,  4M106DH32 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (14件)
  • 米国仮出願第60/555,172号
  • 米国特許第6,366,104号
  • 米国特許第6,531,774号
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審査官引用 (4件)
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