特許
J-GLOBAL ID:200903076858262765

陽極酸化膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤谷 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-339799
公開番号(公開出願番号):特開平6-163526
出願日: 1992年11月26日
公開日(公表日): 1994年06月10日
要約:
【要約】【目的】陽極酸化でリーク特性の良好な薄い酸化膜を形成する。【構成】タンタルの金属膜を所定のパターンにしたものを、酸化させたい部分以外はレジストで覆っておき、電極線をつけて陽極とし電解液の中にセットする。陰極には反応で変化しない白金を用いる。電解液は、クエン酸アンモニウムで1から10%の水溶液を用い、さらに酸化剤を加える。ここでは酸化剤として過酸化水素水を0.1モル用いた。この構成で陽極酸化を行う。通電は、最初は定電流で酸化を行い、必要な電圧値になった時点で定電圧にして電流を流し、成膜させる。このようにして形成した酸化膜は、図2のAに示すように、酸化剤を加えない場合の酸化膜のリーク電流特性Bに比べて、圧倒的に改善されたリーク特性を示し、酸素イオンの供給が十分行き届いて、より完全な酸化膜の形成ができたことを意味する。
請求項(抜粋):
電解液に通電して陽極の金属の表面に酸化膜を形成する陽極酸化において、前記電解液は、弱電離酸を溶媒に溶かした溶液か、弱電離酸アンモニウム塩を溶媒に溶かした溶液であること、前記電解液に、酸化剤を約0.01モル/リットルから約1.0モル/リットルの濃度で含ませること、前記酸化剤は、金属元素を含まない構成の酸化剤であることを特徴とする陽極酸化膜の形成方法。

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