特許
J-GLOBAL ID:200903076858956830

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梅田 明彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-189411
公開番号(公開出願番号):特開平7-021524
出願日: 1993年06月30日
公開日(公表日): 1995年01月24日
要約:
【要約】【構成】 基板の上に磁性膜を形成した後、磁性膜を含めた基板の上に絶縁膜を、全体として磁性膜の上面より或る高さ以上に厚くなるように設ける。次に、ラッピング等の機械的研磨加工又はエッチング等によって、磁性膜より高い絶縁膜の部分を少なくとも部分的に除去して平坦化した後、その上に導体コイル膜を形成する。【効果】 磁性膜と基板との段差に拘らず、磁性膜の上に平坦な絶縁膜が形成される。磁極コイル間の絶縁性が保障されて、絶縁破壊電圧を高くでき、導体コイルの高精度なパターニングが可能となって、信頼性が大幅に向上する。
請求項(抜粋):
基板の上に形成された磁性膜と、その上に絶縁膜を介して形成された導体コイル膜とからなる磁気回路を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記磁性膜を含めた前記基板の上に前記絶縁膜を、全体として前記磁性膜の上面より或る高さ以上に厚く形成する過程と、前記磁性膜より高い前記絶縁膜の部分を少なくとも部分的に除去して平坦化した後に、前記導体コイル膜を形成する過程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

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