イオン注入装置のイオン源

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-022290
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223039
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】アークチャンバとフィラメントとを絶縁するインシュレータに付着あるいは堆積する反応物の生成を抑制ないしは防止することで、連続稼働時間の長期化を図る。【解決手段】アークチャンバ30と、ガス導入パイプ70と、フィラメント40と、フィラメントとアークチャンバとを電気的に絶縁するインシュレータ50と、イオン放出口32aとを備え、フィラメントとアークチャンバとの間に電圧を印加してガスをイオン化し、イオン放出口から生成されたイオンを放出するイオン源において、インシュレータ50の近傍において、アークチャンバ内に導入されたガスを流動させるべく、このインシュレータ50の近傍に通気孔33aを設け、この通気孔33aから内部のガスを流出させるようにした。

請求項（抜粋）：

プラズマ生成のためのアークチャンバと、前記アークチャンバ内にガスを導入するガス導入通路と、前記アークチャンバ内に配置されたフィラメントと、前記フィラメントとアークチャンバとを電気的に絶縁する絶縁体と、前記アークチャンバに形成されたイオン放出口とを備え、前記ガス導入通路からガスを導入しつつ前記フィラメントとアークチャンバとの間に電圧を印加してイオンを生成し、前記イオン放出口からイオンを放出するイオン注入装置のイオン源であって、前記絶縁体の近傍において、前記アークチャンバ内のガスを流動させるガス流動発生手段を設けた、ことを特徴とするイオン注入装置のイオン源。

IPC (4件)：

H01J 27/08 , H01J 37/08 , H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (4件)：

H01J 27/08 , H01J 37/08 , H01J 37/317 Z , H01L 21/265 603 A

Fターム (3件)：

5C030DD05 , 5C030DE01 , 5C034CC01

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