特許
J-GLOBAL ID：200903076866963926
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-228455
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047635
出願日： 1991年08月13日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 上面の感光層が除去されて露出している基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークの双方にTTRアライメント光学系を合焦させた状態でアライメントを行なう。【構成】基板W上の各露光領域に付随した第2のアライメントマークは、該マーク上の感光層が除去されて露出している。ずれ量計測手段40に第1および第2のアライメントマークのいずれか一方を合焦させた状態で、他方のアライメントマークにもずれ量検出手段40が合焦されるように、マスクRと基板Wの少なくとも一方を投影光学系PLの光軸にほぼ沿って移動させる第2の駆動手段13,16を備える。さらに、ずれ量計測手段40に第1および第2のアライメントマークの双方を合焦させた状態で、ずれ量計測手段40によって計測されたずれ量がほぼゼロとなるように第1の駆動手段14を制御するアライメント制御手段15とを備える。
請求項（抜粋）：
光源からの第1の照明光を第1のステージに保持されているマスクにほぼ均一に照射するための照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンを、表面に感光層が形成され第2のステージに保持されている基板上に結像投影する投影光学系と、前記第1の照明光とほぼ同一波長域の第2の照明光を用いて、前記マスクのパターンの近傍に設けられた第1のアライメントマークと、前記基板上の複数の露光領域の各々に付随して設けられた第2のアライメントマークとを前記投影光学系を介して検出し、その2次元的な位置ずれ量を計測するずれ量計測手段と、前記投影光学系の光軸とほぼ垂直な面内で前記マスクと基板とを相対的に移動する第1の駆動手段とを備え、前記マスクパターンを前記投影光学系を介して前記基板上の露光領域に重ね合わせて露光する投影露光装置において、前記基板上の複数の露光領域のうち、少なくとも前記ずれ量計測手段によって前記位置ずれ量を計測すべき露光領域に付随した前記第2のアライメントマークは、該マーク上の感光層が除去されて露出しており、前記ずれ量計測手段に前記第1および第2のアライメントマークのいずれか一方を合焦させた状態で、他方のアライメントマークにも前記ずれ量検出手段が合焦されるように、前記第1および第2のステージの少なくとも一方を前記投影光学系の光軸にほぼ沿って移動させる第2の駆動手段と、前記ずれ量計測手段に前記第1および第2のアライメントマークの双方を合焦させた状態で、前記ずれ量計測手段によって計測された位置ずれ量がほぼゼロとなるように前記第1の駆動手段を制御するアライメント制御手段とを有し、前記投影光学系の結像面と前記基板上の露光領域の表面とをほぼ一致させて露光することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
