特許
J-GLOBAL ID：200903076867008863
パーティクル検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-147167
公開番号（公開出願番号）：特開平5-340885
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 高感度にウエハ上のパーティクルを検査する。【構成】 シリコン基板1の表面の微細なパーティクル2を中心に水滴3を凝着させてそれにレーザー光線5を照射し、その散乱光6でパーティクル2を検出する。【効果】 検査基板上に付着した微粒子にのみ水滴を形成させることによりレーザ光線の散乱光を微粒子のみから発生する散乱光に比べて増強させ効率的に光検出器に検出させることにより従来はほとんど不可能であった0.1μm以下の微粒子の検出を可能にすることができた。
請求項（抜粋）：
被検査基板に水滴を凝着させ、前記水滴による散乱光を検出してパーティクルの分布、粒径を検査することを特徴とするパーティクル検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, G01N 15/02
, H01L 21/66
